磁控溅射详细介绍磁控溅射利用环状磁场控制下的辉光放电，产生溅射离子。 磁控原理：采用正交电磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，使电子在正交电磁场中做摆线运动，增加与气体分子碰撞的几率，从而提高电离效率和溅射速率。综上所述，磁控溅射设备作为一种高效的物理气相沉积设备，在薄膜制备领域具有广泛应用。...